HTML · Slides · PDF | Přehled předmětu
Petr Jedlička, Cyril Klimeš, Tomáš Pitner tomas.pitner@mendelu.cz
Vývoj podle spínacího prvku: relé (0. gen.) → elektronky (1. gen.) → bipolární tranzistory (2. gen.) → integrované obvody (3. gen.) → mikroprocesory (4. gen.)
Dnes dominantní: tranzistory MOSFET
Trend: každá generace přinesla zmenšení, zrychlení, nižší cenu a vyšší spolehlivost
Klíč: digitální počítač je vždy postaven na určitém typu spínacího elementu
Počítačový systém: hardware + software (základ = operační systém)
Reprezentace čísel: dvojková soustava, doplňkový kód umožňuje sčítání kladných/záporných stejným obvodem
Instrukce: operační kód + adresní část, různé adresovací režimy
Instrukční cyklus: načtení → dekódování → získání operandů → provedení → zápis výsledku
Paměťová hierarchie: registry → cache → RAM → vnější paměti
Kódování: ASCII/Unicode (UTF-8), parita, Grayův kód
Kombinační obvody: výstup závisí pouze na aktuálních vstupech (bez paměti)
Booleova algebra: umožňuje popis a zjednodušování logických funkcí (De Morganovy zákony)
Základní hradla: AND, OR, NOT; odvozená NAND, NOR, XOR, XNOR
Sčítačky: polosčítačka a úplná sčítačka – základ ALU
MUX/DEMUX: výběr/rozdělení dat podle řídicích signálů
Realizace CMOS: komplementární MOSFETy, NAND/NOR ze 4 tranzistorů
Sekvenční obvody: mají vnitřní stav – výstup závisí i na minulosti
Latch vs. flip-flop: latch reaguje na úroveň, flip-flop na hranu hodinového signálu
Klopné obvody: R-S, D, J-K; D flip-flop je nejpoužívanější
Registry: paralelní (uchování více bitů), posuvné SIPO/PISO
Čítače: synchronní/asynchronní, inkrementace/dekrementace
Praktické použití: paměťové prvky, časování, řídicí obvody
Von Neumann vs. Harvard: dnes převážně hybridní přístup
Části CPU: řadič, ALU/FPU, registry, cache
ISA vs. mikroarchitektura: rozhraní vs. konkrétní realizace (stejná ISA ≠ stejný výkon)
RISC vs. CISC: dnes se hranice stírá (x86 interně převádí na mikrooperace)
Techniky zvýšení výkonu: pipeline, predikce větvení, out-of-order, přejmenování registrů, superskalárnost, SMT, SIMD
Dominantní ISA: x86-64, Arm/AArch64, RISC-V
Strojový kód vs. assembler: assembler = lidsky čitelný zápis, překlad assemblerem
Programátorský model: registry, příznaky, paměťový prostor, instrukční sada
Typy instrukcí: přenos dat, aritmetické, logické, řídicí, zásobníkové, I/O
Intel 8080 příklad: akumulátor A, registry B–L, páry BC/DE/HL, SP, PC
Počet operandů: 0–3; více operandů = méně instrukcí, ale složitější kódování
x86-64: 64bitové registry RAX–R15, RIP, RFLAGS, vektorové registry XMM/YMM/ZMM
Účel: uchování programu a dat (volatilní i nevolatilní)
Parametry: kapacita, přístupová doba, šířka přenosu, chybovost
Paměťová hierarchie: registry → L1/L2/L3 cache → hlavní RAM → vnější paměti
SRAM vs. DRAM: SRAM rychlejší (cache), DRAM hustší/levnější (hlavní paměť), DRAM vyžaduje refresh
Adresování: po bajtech, zarovnávání dat pro efektivitu
Typy: ROM, PROM, EPROM, EEPROM, Flash, HDD, SSD, pásky, optická média
Měření výkonu: doba odezvy vs. propustnost, benchmarky (SPEC CPU)
Pipeline: zvyšuje propustnost, řeší konflikty forwardingem/stallingem + predikcí skoků
Paralelismus: ILP, vícejádra, SMT, SIMD/vektorové instrukce
Superskalární/VLIW: snaha maximalizovat počet prováděných instrukcí za cyklus
Koherence & NUMA: důležité u vícejádrových systémů se sdílenou pamětí
Netradiční směry: tok dat, systolické pole, neuronové a kvantové počítače
Sběrnice: komunikační kanál pro přenos adres, dat a řídicích signálů
Typy přenosu: paralelní vs. sériový, synchronní vs. asynchronní, simplex/half/full-duplex
Sdílení média: arbitráž, CSMA/CD, CSMA/CA, multiplexování
Hierarchie: různé nároky → různé sběrnice (rychlostní rozdělení)
Vývoj: FSB → QPI → PCI Express (point-to-point)
Externí rozhraní: USB, bezdrátová propojení, průmyslové sběrnice
Účel: generování obrazu do framebufferu a jeho neustálé obnovování na displeji
Rastr vs. znaková grafika: dnes plný rastr; framebuffer roste s rozlišením a barevnou hloubkou
Anatomie: GPU + videopaměť (GDDR/LPDDR/HBM) + řídicí logika
Dedikované vs. integrované: vlastní paměť/výkon vs. úspora místa/energie
Unified memory: společný adresní prostor CPU–GPU (méně kopírování)
GPGPU: dnes využití i pro AI, výpočty, ray tracing, upscaling (DLSS/FSR/XeSS)
Periferie: vnější zařízení rozšiřující funkce počítače (vstup/výstup/kombinovaná)
Vstupní: klávesnice, polohovací zařízení, čtečky karet/čárových kódů, mikrofony
Výstupní: monitory/displeje, tiskárny (2D i 3D), reproduktory/sluchátka
Kombinovaná: webkamery, multifunkční zařízení
Princip: komunikují přes rozhraní/sběrnice (USB apod.)
Důležitost: bez periferií je počítač prakticky nepoužitelný
Průmysl 4.0: IIoT, digitální dvojče, decentralizace, automatizace
Hierarchie automatizace: úrovně 0–4 (Field/Device → Control → Supervisory → MES/Plant → Enterprise)
Průmyslové sítě: Profinet, EtherNet/IP, EtherCAT, Modbus TCP, POWERLINK
Modbus TCP: jednoduchý, ale nevhodný pro tvrdý reálný čas
Průmyslové počítače: odolné vůči teplotě, vibracím, prachu; často bez ventilátoru
Typy: Panel PC, Box PC, Embedded PC, rackové systémy
Schopnost na základě (slabého) podnětu (napětí či proud) spínat větší výkony.
Nebo lze použít jako zesilovač:
malá změna na vstupu → velká změna na výstupu (10x-100x i vícekrát).
Germanium (Ge),
Křemík (Si),
Selen (Se)
karbid křemíku (SiC),
nitrid galia (GaAn)
po selenu a germaniu nejdéle a dodnes nejšířeji používaný polovodivý prvek
běžně dostupný, jeden z nejběžnějších prvků v zemské kůře
výroba polovodičového křemíku je nicméně dosti náročný proces (čas, energie, suroviny)
obecně až po finální polovodičový čip 600-1200 výrobních kroků
| Pořadí | Prvek | Přibližný podíl (% hmotnosti) |
|---|---|---|
1 | Kyslík (O) | 46,6 % |
2 | Křemík (Si) | 27,7 % |
3 | Hliník (Al) | 8,1 % |
4 | Železo (Fe) | 5,0 % |
5 | Vápník (Ca) | 3,6 % |
čipy = integrované obvody obsahující jednotky, desítky, spíše však až desítky miliard elementárních prvků (tranzistory, rezistory, diody, evt. kapacitory)
obecně až po finální polovodičový čip 600-1200 výrobních kroků
Získává se křemenný písek s velmi vysokou čistotou.
V pecích se redukuje na technický (metalurgický) křemík pomocí uhlíku.
Dále se chemicky čistí na elektronicky čistý křemík (čistota aspoň 99,9999999 % — tzv. 9N).
Taví se ultračistý křemík.
Pomocí krystalového zárodku se z taveniny vytahuje monokrystal (ingot).
Jde o válec o průměru 150 až 300 mm (6—12 palců).
Výsledkem je jednotná krystalová struktura → monokrystal.
Czochralského metoda
Ingot se řeže na tenké plátky (wafers) o tloušťce cca 0,5–1 mm.
Wafers se leští a čistí na atomární úroveň → připravené pro litografii.
Proces, který se opakuje stovky kroků (pro desítky vrstev):
Vytvoření izolační vrstvy (SiO₂).
Na wafer se nanese fotorezist, který se osvítí přes masku (šablonu obvodu).
Odstranění odhalených oblastí vrstvy.
Přesná úprava vodivosti dopováním (např. bor, fosfor).
Nanesení kovů nebo dalších vrstev (např. měď, kobalt, dielektrikum).
Zajištění rovinnosti povrchu.
Tento cyklus se opakuje pro každou vrstvu obvodu — čip může mít 50-100 vrstev, z nichž každá se vyrábí extrémní precizností.
Pomocí mikroskopických sond se ověřuje funkčnost čipů přímo na waferu.
Nefunkční čipy se označí → při řezání se vyřadí.
Wafer se řeže na jednotlivé dies (čipy).
Čipy se montují do pouzdra (např. BGA, QFN, LGA) → elektrické propojení přes bondovací drátky, pájecí kuličky apod.
Následuje zalití, chlazení, přidání rozvaděčů tepla.
Ověření elektrických parametrů, výkonu, spotřeby, stabilního chodu.
Čipy se třídí podle kvality a výkonu (tzv. binning).
Nakonec se balí pro distribuci.
Čipy jdou do počítačů, telefonů, aut, routerů, satelitů atd.
Těžba a rafinace křemene
Výroba monokrystalu (ingot)
Řezání a leštění waferů
Vícekroková litografie a výroba tranzistorů
Testování čipů na waferu
Řezání a pouzdření čipů
Finální testování a třídění
Distribuce výrobcům
Materiál s velkou tvrdostí (na Mohsově stupnici 1-10 hodnota 9,5), "křemíkový korund"
Tradičně se v práškové slisované/spečené formě používá jako brusný materiál (karborundum), do ochranných destiček.
Náhražka diamantu (tvrdost 10) do ložisek
Moderní polovodičový materiál pro výkonové prvky (power semiconductors)
Na rozdíl od brusiva musí být ve formě monokrystalu.
SiC součástky se vyznačují vyšším maximálním závěrným napětím (= snese stovky až tisíce V).
Snesou vyšší proudy (desítky až stovky A).
Lze udělat se stejnými nebo lepšími parametry součástku menší než při použití Si.
Výroba monokrystalu SiC je ovšem značně delší a energeticky náročnější než Si.
Výrazně lepší spínací vlastnosti a vyšší spolehlivost než tradiční křemíkové součástky.
Díky absenci zpětného zotavovacího proudu, teplotně nezávislému spínání a vynikajícím tepelným vlastnostem představuje karbid křemíku novou generaci výkonových polovodičů.
nejvyšší účinnost,
vyšší pracovní frekvenci,
zvýšenou hustotu výkonu,
snížené elektromagnetické rušení (EMI),
zmenšení rozměrů a nákladů na celý systém
produktová řada EliteSiC
tranzistory JFET/MOSFET, Schottkyho diody a napájecí moduly
pro vysokonapěťové a vysokofrekvenční aplikace,
elektromobily, průmyslové pohony, solární invertory a nabíjecí stanice
příklad Silicon Carbide (SiC), Cascode JFET - EliteSiC, Power N-Channel, TO247-3, 1200 V, 80 mohm
Schottkyho diody OnSemi FFSM0665A
Obdobně jako u SiC: vynikající elektrické a tepelné vlastnosti,
GaN ideální pro aplikace vyžadující vysokou účinnost, rychlé spínání a kompaktní rozměry:
výkonová elektronika,
vysokofrekvenční zařízení (RF)
optoelektronika (lasery).
CoolGaN™ tranzistory (60—700 V) s vysokou účinností a rychlým spínáním.
Aplikace: Průmyslové napájecí zdroje, spotřební elektronika, elektromobily.
První výrobce, který začal produkovat GaN čipy na 300mm waferu.